LPCVD 低壓氣象沉積系統
- 型號 : LPCDHTF1200c
- 加熱區 : 12”dia x 48L
- 最高溫 : 1200C
- Heater : R-Type, 3Set T/C, lead wire and head 160A, 380V/60Hz/3ph
- 三區加熱, 電腦控制, 可自動控制溫度(升降溫、恆溫)及控制真空壓力與手臂進出
- 自動 PID 控制器
- 即時 LED 顯示螢幕當下實際溫度與製程參數
- 適用晶片 6~8" Wafer
- 可課製設定溫度設定程式,且可調整 PID 參數以達到最佳設定溫度點
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無塵室內高架地板
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6" Wafer
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4 Tube System
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Vacuum Cap System
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PLC Control System