半導體設備專區
可使用 LPVCD 與 無塵烘箱進行製程
LPCVD System
- 工作溫度 : 205~1200C
- 晶片尺寸 : 2"~8" Wafer
- 工作壓力1~100Torr
- 3 區程式溫度控制
- 電腦全自動控制模組
- 極限真空壓力 : 10 Torr
- 電力需求 : 380V / 160A / 60Hz / 3ph
Class 10 無塵烘箱
- 潔淨度為 Class10
- 溫度 : 最高溫 250C
- 均溫範圍正負1C
- Control Accurancy : 正負0.5C
- Resolution : 正負0.1C
全自動垂直爐
- 型號 : B12-55AT
- 適用晶片 : 6~8" Wafer
- 溫度 : 250~750C
- 晶片傳送機械手臂模組, PLC/人機控制, 可自動控制溫度(升降溫、恆溫)
- 即時 LED 顯示螢幕當下實際溫度與製程參數
