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半導體設備專區

可使用 LPVCD 與 無塵烘箱進行製程

LPCVD System

  • 工作溫度 : 205~1200C
  • 晶片尺寸 : 2"~8" Wafer
  • 工作壓力1~100Torr
  • 3 區程式溫度控制
  • 電腦全自動控制模組
  • 極限真空壓力 : 10    Torr
  • 電力需求 : 380V / 160A / 60Hz / 3ph

Class 10 無塵烘箱

  • 潔淨度為 Class10
  • 溫度 : 最高溫 250C
  • 均溫範圍正負1C
  • Control Accurancy : 正負0.5C
  • Resolution : 正負0.1C